前沿科技創(chuàng)新產(chǎn)業(yè)園
地理位置及交通環(huán)境：位于廣州科學(xué)城開(kāi)達(dá)路以西，開(kāi)創(chuàng)大道以南的KXC-K1-3地塊。
土地性質(zhì)：一類(lèi)工業(yè)用地。
面積及物業(yè)用途：總用地面積約12.77萬(wàn)平方米，總建筑面積約45萬(wàn)平方米，建設(shè)內(nèi)容為10棟建筑物及相應(yīng)配套，功能涵蓋實(shí)驗(yàn)室、科研樓、重大專(zhuān)項(xiàng)平臺(tái)、成果轉(zhuǎn)化支撐平臺(tái)及宿舍樓等。園區(qū)落成將集半導(dǎo)體研發(fā)生產(chǎn)、機(jī)器人核心零部件制造、低空產(chǎn)業(yè)終端系統(tǒng)制造等為一體的前沿技術(shù)中心。
預(yù)計(jì)完工時(shí)間：預(yù)計(jì)2028年竣工。
